248nm準分子激光器技術由于輸出波長短、能量高、具有窄的脈寬和很高的峰值功率，在工業(yè)、國防等方面，尤其是高功率激光系統(tǒng)包括248nm光刻技術、激光醫(yī)療、激光精細加工中具有極廣的應用前景，也是ICF領域一個重要的技術選項。248nm薄膜元件是準分子激光系統(tǒng)中重要的薄膜元器件，其光學損耗和抗激光損傷性能對激光系統(tǒng)的效率起著重大或決定性的作用。

上海光機所研究了LaF₃、MgF₂、Al₂O₃和SiO₂薄膜的低吸收、低損耗蒸發(fā)沉積工藝，在此基礎上設計并制備了兩種248nm增透膜，增透膜的剩余反射率均小于0.1%。“天光”準分子激光系統(tǒng)將本所制備的增透膜元件與國際最重要，也代表最高國際水平的德國研制元件進行了損傷閾值對比測試，測試波長248nm，脈寬24ns。結果顯示，對比德國5.5J/cm²的損傷閾值，本所制備的LaF₃/MgF₂增透膜平均在7.5J/cm²，最高達到11J/cm²；Al₂O₃/SiO₂制備的增透膜的損傷閾值平均在6J/cm²。證明上海光機所研制的248nm增透膜損傷閾值結果達到國際領先水平。（中科院強激光材料重點實驗室供稿）

 　圖1. 兩種材料組合制備的248nm增透膜的光譜曲線

　　圖2.  248nm增透膜的損傷閾值對比測試結果